Michael Raab (Radebeul)
Die Mikroelektronik von den Anfängen in den 1960er Jahren bis zur Gegenwart
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 23 (2020), S. 365-387
Inhalt:
Dresden war Ausgangspunkt und später eines der Zentren der Mikroelektronik der DDR. Darauf aufbauend sorgte nach der Wende eine intensive Förderung zur Ansiedlung potenter Mikroelektronikfirmen. Diese Entwicklung, die schließlich zum Dresdener Silicon Saxony führte, wird in dem Beitrag ausführlich beschrieben.
Weiterhin werden folgende Themen beschrieben und kritisch analysiert:
– Stand der Mikroelektronik in Deutschland
– Internationale Entwicklung der Mikroelektronik
– Lithographie als Vorzeigebeispiel europäischer Zusammenarbeit
– Die nächsten Schritte einer europäischen Entwicklung der Mikroelektronik
Dr. Ing. Michael Raab hat in unterschiedlichen Dresdener Mikroelektronik-Firmen die Technologieentwicklung geleitet und zahlreiche Basistechnologien zur Herstellung von μ-Prozessoren erfolgreich in die Produktion eingeführt.
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Bernd Brendel, Peter Hahmann (beide Jena)
Raster-Elektronenmikroskopie bei Carl Zeiss JENA
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 21 (2018), S. 173-214
Inhalt:
Das wesentliche Wirkprinzip des Rastermikroskopes ist die punktweise Detektion von Substrateigenschaften und die synchrone Wiedergabe auf einem Bildschirm. Die Grundlagen waren lange bekannt, aber erst die Entwicklung der Elektronik ermöglichte die Nutzung im großen Maßstab. Parallel zur weltweiten Entwicklung arbeitete auch Carl Zeiss Jena an einem Rasterelektronenmikroskop. Anforderungen der mikroelektronischen Industrie, vornehmlich in der UdSSR und der DDR, stoppte die Arbeiten zum Mikroskop im engeren Sinne, führten aber zu einem völlig neuen Gerätetypus, dem Elektronenstrahl -Meß-,-Kontroll- und Belichtungsgerät ZRM12. Das Rasterprinzip lässt sich auch die lichtoptische Variante übertragen. In Jena entstand das Messgerät M100, das lange Zeit für die interne Qualitätskontrolle eingesetzt wurde. Beide Geräte konnten zweidimensionale Strukturen messen. Der Einsatz des weiterentwickelten Elektronenstrahlgerätes führte (neben zahlreichen weiteren Maßnahmen) zur Akkreditierung des Kalibrierlaboratoriums des Deutschen Kalibrierdienstes für zweidimensionale Positioniernormale bei der Jenoptik Technologie GmbH, Jena DKD-K-12401.
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Joachim Ludwig (Kahla)
Die Geschichte der Reinraumtechnik und deren Weiterentwicklung in der Region Jena
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 20 (2017), S. 233-254
Inhalt:
Erste Erfahrungen sammelte Ludwig bei Zeiss als es galt, Reinsträume für die Herstellung und Erprobung von Ausrüstungen für die Mikroelektronik bereitzustellen. Nach der Wende etablierten sich einige Firmen im Raum Jena zur Reinraumtechnik. Ludwigs neu gegründete Firma Cleanroom Technology Jena nahm im Jahr 1995 erste Aufträge an. Schrittweise entwickelte sich daraus die heutige Colandis GmbH, die ihren Sitz in Kahla hat. Zahlreiche Innovationen, wie der Mitreinraum, brachten der Firma nationale und internationale Anerkennung ein.
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Peter Hahmann (Jena)
Eberhard Hahn: Entwickler auf dem Gebiet der Elektronenoptik
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 17 (2014), S. 11-53
Inhalt:
Eberhard Hahn war ein außerordentlich begabter Theoretiker und Erfinder. Vier Jahrzehnte prägte er die elektronenoptischen Aktivitäten im VEB Carl Zeiss Jena. Das waren die elektrostatischen und magnetischen Elektronenmikroskope sowie die Elektronenstrahl- Lithographie mit Einstrahl- und Vielstrahlsystemen. Einerseits schaffte er das Rüstzeug, um die optischen Eigenschaften der Geräte zu berechnen und zu optimieren. Andererseits haben viele seiner Ideen zu neuen Wirkprinzipien zum internationalen Erfolg der Elektronenstrahlgeräte aus Jena beigetragen.
In diesem Beitrag wird das Lebenswerk von Eberhard Hahn ausführlich und fachlich tiefgründig gewürdigt. Der Autor war an der Umsetzung der Konzepte Eberhard Hahns zu Elektronenstrahl-Lithographieanlagen in die Praxis beteiligt. Viele der hier geschilderten Fakten und Eindrücke gehen daher auf eigenes Erleben zurück.
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Peter Hahmann (Jena)
Jenaer Arbeiten zur Elektronenstrahllithographie (Teil 2: ab 1990)
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 15 (2012), S. 73-171
Inhalt:
In diesem Beitrag werden die Jenaer Arbeiten zur Elektronenstrahllithographie beschrieben, die zunächst ab 1990 in der Jenoptik Carl Zeiss Jena GmbH, danach ab 1998 in der Leica Microsystems Lithography und schließlich ab 2005 in der VISTEC Electron Beam GmbH durchgeführt wurden sind.
Folgende Geräteentwicklungen werden ausführlich beschrieben:
– Zeiss Belichtungs-Anlagen ZBA 23, ZBA 31/32
– Elektronenstrahl-Schreiber (Shaped Beam) SB 250, SB 350/SB 3050, SB 450
Abschließend wird auf die Methoden zum Nachweis der Leistungsparameter eingegangen und auf die Anwendungen der Geräte als Markenschreiber (pattern generator).
Der Teil 1 des Beitrages, der den Zeitraum bis 1990 analysiert, ist im Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 14 (2011), S. 21-83 erschienen.
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Hansjürgen Pröger
Von Abbes Strichteilungen zur Mikrolithografie – Ein historischer Abriss zur geteilten Optik
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 12 (2009), S. 243-312
Inhalt:
Dieser reich bebilderten Beitrag vermittelt einen umfassenden Überblick über die Entwicklung der geteilten Optik im Jenaer Zeisswerk von den ersten Anfägen um 1875 bis zur Einstellung der Fertigung in Jena im Jahre 1999. Die hierfür entwickelte Mikostrukturtechnik zur Fertigung geteilter Optik (z.B. Fadenkreuze, Zielmarken, Okularstrichplatten, Beugungsgitter, Maßverkörperungen) wird ausführlich beschrieben.
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Karl-Werner Gommel (Jena)
Geräteentwicklungen für die Fotolithografie bei Carl Zeiss Jena
Alexander Heyroth zum 80 Geburtstag gewidmet
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 10 (2007), S. 154-174
Inhalt:
Beschrieben werden folgende Geräteentwicklungen:
– Automatischer Neunfachrepeater (ANR)
– Universal-Einfachrepeater (UER)
– Automatischer Einfachrepeater (AER)
– Masken-Projektions-Überdeckungsrepeater (MPÜR)
– Automatischer Überdeckungsrepeater (AÜR)
– Defektkontrollgerät (DKG)
– Projektions-Justier- und Belichtungseinrichtung (JuBPM)
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Peter Hahmann (Jena)
Jenaer Arbeiten zur Elektronenstrahllithographie – Teil 1 (bis 1990)
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 14 (2011), S. 21-83
Inhalt:
Nach einer kurzen Einführung in das Prinzip und die Geschichte der Elektronenstrahllithographie werden in dem Beitrag die im Zeitraum von 1968 bis 1990 im Jenaer Zeisswerk entwickelten elektronenstrahltechnischen Gerätesysteme ausführlich dargestellt:
– Elektronenoptische Meßeinrichtung EME
– Elektronenstrahl-Meß- und Kontrollgeräte ZRM 11/12
– Elektronenstrahl-Bearbeitungsanlagen (EBA, ZBA 10/20/21/22/31/32)
– Be-und Entladestation (BSE).
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Peter Hahmann (Jena)
Ernst Guyenot zum 100. Geburtstag
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 16 (2013), S. 321-348
Inhalt:
In diesem Beitrag wird das Lebenswerk eines Zeiss-Wissenschaftlers gewürdigt, der sich insbesondere durch seine Arbeiten auf dem Gebiet der Elektronen-Mikroskopie und Elektronen-Lithographie große Verdienste erwarb. Der Autor, der noch persönlich mit Ernst Guyenot zusammenarbeitete, liefert dazu einen ausführlichen Bericht.
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Rainer Plontke
Lithographiesystem LION-LV1
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 9 (2006), S. 535-566
Inhalt:
Es werden Entwicklung, Eigenschaften und Anwendungen eines speziellen Lithographiesystems für Integrierte Optik und Nanostrukturen (LION) beschrieben. Es handelt sich um ein elektronenoptisches Gerät, das mit sehr geringen Beschleunigungsspannungen arbeitet (LV1 = Low Voltage 1 kV) und deshalb bei der Exposition von Resistmaterial eine besonders hohe Auflösung ermöglicht und ausschließlich für Forschungszwecke angewendet wurde.
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