Schlagwort-Archive: Feinmesstechnik

Bd.17(2014): 267-304_Grolle

 

Lambert Grolle (Jena)
Dr. Otto Eppenstein und die Entwicklung der Feinmessgeräte bei Carl Zeiss Jena bis 1945
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 17 (2014), S. 267-304

Inhalt:
Im Oktober 2014 jährt sich zum zweiundsiebzigsten Male der Todestag von Dr. Otto Martin Eppenstein. Es ist das Anliegen dieses Beitrages, das Leben und Wirken dieses hervorragenden Zeiss-Wissenschaftlers zu würdigen. Neben einer ausführlichen Beschreibung von Eppensteins Lebensleistung wird in dem Beitrag auch der „ungewöhnliche Mensch“ Eppenstein gewürdigt und sein Leidensweg in der NS-Zeit wegen seiner jüdischen Herkunft geschildert.

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Bd.15(2012):349-372_Riehermann u.a.

 

S. Riehermann; O. Mauroner; B. Weber; A. Tünnermann (Jena)
20 Jahre Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 15 (2012), S. 349-372

Inhalt:
In diesem Beitrag werden für den Zeitraum von 2002 bis 2011 die Höhepunkte der Institutsforschung aus folgenden Forschungsschwerpunkten kurz dargestellt:

  • Design und Analyse opto-mechanischer Systeme
  • Multi-Layer-Optiken für die EUV-Lithographie
  • Funktionale optische Schichten auf Kunststoff
  • Schicht- und Oberflächencharakterisierung
  • Optische 3D-Meßtechnik für Industrie und Medizin
  • Ultrapräzise Optiken für Astronomie und Weltraum
  • Mikrooptik für Projektoren und Kameras
  • LED- und OLED-Lichtquellen
  • Mikro- und Nanostrukturtechnik
  • Montagetechnologie für Hochleistungsobjektive
  • Faserlaser

Ein entsprechender Artikel über die ersten 10 Jahre des Fraunhofer-Instituts IOF ist im Jenaer Jahrbuch Band 4 (2002), S. 212-241 erschienen.

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Bd.12(2009):85-99_Wimmer

 

Wolfgang Wimmer
Forschung und Entwicklung bei Zeiss in der Zwischenkriegszeit
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 12 (2009), S. 85-99

Inhalt:
In diesem Beitrag wird die Forschung und Entwicklung in den Zeiss- Erzeugnisgruppen Mikro, Mess, Geo, Med, Feinmess, Astro, Bildmess und Photo differenziert analysiert. Es werden die erzeugnisspezifischen Unterschiede aufgezeigt. Zeiss-typische Besonderheiten wie die zentrale Rolle der wissenschaftlichen Abteilungsleiter werden herausgearbeitet.

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Bd.14(2011):223-253_Tschirnich

 

Josef Tschirnich (Berlin)
Die Normalmeßeinrichtung „Automatischer Interferenzkomparator“ (1975 – 2000)
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 14 (2011), S. 223-253

Inhalt:
Es werden ausführlich der Aufbau und die Leistungsparameter des automatischen Interferenzkomparators beim damaligen Amt für Standardisierung, Meßwesen und Warenprüfung (ASMW) der DDR beschrieben. Dieser Komperator wurde vom ASMW in Zusammenarbeit mit dem Jenaer Zeisswerk entwickelt und bis zum Jahre 2000 für den hochgenauen Maßanschluß von Strich – und Parallelendmaßen erfolgreich eingesetzt. Im Jahre 2001 wurde er an das chinesische metrologische Staatsamt überführt.

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Bd.13(2010):13-51_Grolle


Lambert Grolle, Manfred Steinbach (Jena)
Otto Eppensteins Längenmeßmaschine
Eine Hommage an den großen Zeiss-Wissenschaftler
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 13 (2010), S. 13-51

Inhalt:
Die seit 1926 gefertigten Längenmeßmaschinen nach Eppenstein waren im Geräteprogramm des Fertigungsbereiches Fertigungsmeßtechnik (Feinmeß) des Jenaer Zeisswerkes von besonderer Bedeutung. In diesem Beitrag werden Wirkungsprinzip, konstruktiver Aufbau und Handhabung dieser Geräte ausführlich erläutert, sowie Leben und Werk Otto Eppensteins in einer kurzen Biographie gewürdigt.

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Bd.7(2005):9-69_Steinbach


Manfred Steinbach
Ernst Abbes Komparatorprinzip
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 7 (2005), S. 9-69

Inhalt:
Der Beitrag behandelt Ernst Abbes Komparatorprinzip, das von ihm in den Jahren 1888 und 1890 publiziert worden ist. Neben der Erläuterung und Begründung des Prinzips werden Vorläufer und Weiterentwicklungen besprochen. Im Hause Zeiss und in der ganzen Welt wurden und werden bis heute zahlreiche Geräte gebaut, die wesentlich davon profitiert haben. Die Anwendungen beziehen sich nicht nur auf den reinen Längenvergleich, sondern, wie gezeigt wurde, auf eine Vielzahl von Mess-und Positionieraufgaben z. B. in Gerätetechnik, Werkzeugmaschinentechnik, astronomischer Technik und auf dem weiten Gebiet der Interferometrie. Der Beitrag zeigt schließlich auch die Grenzen der Anwendbarkeit des Prinzips und Strategien für dessenUmgehung auf.

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Bd.6(2004):117-197_Woschni


Hans-Günter Woschni
Grundlagen der fotoelektrischen Ortsbestimmung von Strichen und Kanten in der optischen Präzisionsmechanik
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 6 (2004), S. 117-197

Inhalt:
In diesem Artikel werden die theoretischen Grundlagen der Anwendung fotoelektrischer Messverfahren in optischen Präzisionsmessgeräten vorgestellt. Der Beitrag ist dem Andenken des 2004 verstorbenen Dr. Gerhard Meister gewidmet, der als exzellenter Wissenschaftler und Leiter das Gebiet der Automatisierungs-und Präzisionsmesstechnik im Jenaer Zeisswerk über Jahrzehnte maßgeblich vorangetrieben hat.

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Bd.4(2002):43-107_Steinbach


Manfred Steinbach
Rückblick auf 40 Jahre Konstruktionsarbeit in der Jenaer Tradition
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 4 (2002), S. 43-107

Inhalt:
Dieser Beitrag ist eine persönliche Rückschau des Verfassers auf 40 Jahre Konstruktionsarbeit in der Jenaer Tradition. Dabei wird anhand einer größeren Zahl beispielhafter konstruktiver Lösungen für bedeutende Erzeugnisentwicklungen die hohe Präzision im zeisstypischen Gerätebau veranschaulicht und ein Eindruck von den damit verbundenen Anforderungen an das schöpferische Leistungsvermögen der Geräteentwickler und Konstrukteure vermittelt. Nicht zuletzt wird dadurch ein erweitertes Allgemeinverständnis vom Berufsbild des Konstrukteurs vermittelt.

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Bd.3 (2001):223-269_Möbius


Johannes Möbius
Meßsysteme aus Jena für die Automatisierungstechnik
Ein historischer Abriß aus technischer Sicht
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 3 (2001), S. 223-269

Inhalt:
In diesem Beitrag wird eine umfassende Übersicht über die bei Carl Zeiss Jena im Bereich „Numerik“ (seit 1998 ausgegründet als NUMERIK JENA GmbH) gefertigten Meßsysteme gegeben.

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Bd.2(2000):110-169_Wiederhold


Gerhard Wiederhold
Vier Jahrzehnte Laserentwicklung in Jena
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 2 (2000), S. 110-169

Inhalt:
Laser-Strahlungsquellen haben in den vergangenen vier Jahrzehnten Wissenschaft, Technik, und Medizin nachhaltig beeinflusst. Auf Grund seiner hochentwickelten feinmechanisch-optischen Industrie und seinen Forschungsinstituten hat der Standort Jena erheblich dazu beigetragen. So wurden im Physikalischen Kolloquium der Universität bereits am 3.12.1962 (2 Jahre nach der erfolgreichen Inbetriebnahme eines Rubinlasers durch den Amerikaner Maiman) die Eigenschaften selbstentwickelter Gas-und Festkörperlaser einem größeren Publikum demonstriert.
Carl Zeiss Jena konnte zur Leipziger Frühjahrsmesse 1964 erstmals Gas-und Festkörperlaser aus eigener Entwicklung ausstellen und 1965 mit dem Lasermikrospektral-Analysator eine leistungsfähige industrielle Laseranwendung präsentieren. In der Folgezeit wurden in Jena zahlreiche Lasertypen wie z. B. He-Ne-, Ionen-, C02-und Festkörper-Laser entwickelt und gefertigt. Vor der Wende wurden Festkörperlaser im Kombinat Carl Zeiss Jena insbesondere für die Messtechnik (LMA, Transmark) und für militärische Entfernungsmesser hergestellt.
Ein Schwerpunktthema der Laserforschung an der Universität war und ist die Erzeugung sehr kurzer Impulse bis in den Femtosekunden-Bereich. Weiterhin werden u. a. Diodenlaser-gepumpte Festkörperlaser und Faserlaser intensiv bearbeitet. Zahlreiche Betriebe für die Laserfertigung und -anwendung haben sich in Jena etabliert. Damit stellt Jena – nach einer kurzen Stagnation nach der Wiedervereinigung beider deutscher Staaten – wieder ein beachtetes Zentrum der Laserforschung in Deutschland dar.

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