Peter Hahmann (Jena)
Jenaer Arbeiten zur Elektronenstrahllithographie – Teil 1 (bis 1990)
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 14 (2011), S. 21-83
Inhalt:
Nach einer kurzen Einführung in das Prinzip und die Geschichte der Elektronenstrahllithographie werden in dem Beitrag die im Zeitraum von 1968 bis 1990 im Jenaer Zeisswerk entwickelten elektronenstrahltechnischen Gerätesysteme ausführlich dargestellt:
– Elektronenoptische Meßeinrichtung EME
– Elektronenstrahl-Meß- und Kontrollgeräte ZRM 11/12
– Elektronenstrahl-Bearbeitungsanlagen (EBA, ZBA 10/20/21/22/31/32)
– Be-und Entladestation (BSE).